始建于1959年
主要技術(shù)指標(biāo)：
◆ 內(nèi)腔直徑（mm）：2800、3000、3600等；
◆ 使用整體平面工件盤時(shí)：工件直徑不超過(guò)φ2400mm，邊緣厚度不超過(guò)400mm，工件及夾具總重量不超過(guò)10噸，工件轉(zhuǎn)速3-10rpm/min；
◆ 使用三行星平面工件盤時(shí)：工件直徑不超過(guò)φ1100mm，邊緣厚度不超過(guò)250mm，工件及夾具總重量不超過(guò)1噸，工件轉(zhuǎn)速3-30rpm/min；
◆ 極限真空：≤8×10-5 Pa（24 小時(shí)內(nèi)）；
◆ 常溫狀態(tài)下，真空室排氣由大氣至壓強(qiáng)2×10-3Pa，排氣時(shí)間≤25min；
◆ 250℃烘烤狀態(tài)下，真空室排氣由大氣至壓強(qiáng)2×10-3Pa，排氣時(shí)間≤45min;
◆ 下烘烤，最高溫度300℃，控溫精度≤±1℃；
◆ 烘烤至200℃時(shí)，溫度不均勻性≤±5℃（徑向5點(diǎn)測(cè)試）
◆ 漏氣率：≤1.0×10-4Pa?m3/s;
◆ 膜厚片內(nèi)均勻性：≤±2%（電子束蒸發(fā)源制備Al2O3、SiO2兩種單層薄膜，延半徑方向均分十點(diǎn)測(cè)試）；
◆ 膜厚片間均勻性： ≤±2%（批次內(nèi)5片，每片取平均值）
◆ 膜厚批間重復(fù)性：≤±2% （連續(xù)3批，每批次取平均值） ；
控制程序：
◆ 19U標(biāo)準(zhǔn)機(jī)柜，專用控制臺(tái)操作；
◆ 基于微軟WPF開(kāi)發(fā)的全自動(dòng)一鍵式操作程序，保證鍍膜重復(fù)性；
◆ 采用excel文件編輯工藝參數(shù)，軟件直接調(diào)用運(yùn)行即可完成整個(gè)鍍膜工藝流程，無(wú)需額外操作；
◆ 軟件自動(dòng)生成詳細(xì)的工藝過(guò)程運(yùn)行記錄和鍍膜信息記錄；
◆ 記錄文件可回溯，歷史數(shù)據(jù)曲線可查看，時(shí)間期限為1年內(nèi)；
◆ 可將TFC和Macload軟件設(shè)計(jì)參與導(dǎo)入到工藝流程內(nèi)；
◆ 膜層狀態(tài)界面可查看厚度、時(shí)間、速率、功率等鍍膜信息；
◆ 關(guān)鍵部件根據(jù)實(shí)際使用情況，有維護(hù)時(shí)間顯示，即節(jié)約成本，又便于維護(hù)；
◆ 完備的互鎖功能，防止誤操作；
◆ 程序設(shè)有三級(jí)權(quán)限，便于管理及維護(hù)。
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